Hay métodos en fase de desarrollo que prevén el uso de técnicas perfeccionadas de serigrafía que funcionen en una sola fase y que ahorrarían en costes. La capa de barrera, impresa como máscara, podría dejar libres los contactos y, al mismo tiempo, quedar permeable para una parte de los átomos de fósforo. en este caso, el dopado depende del grosor de la capa de barrera. Con el mencionado método, una fase de difusión abarca todas las zonas del emisor selectivo.

También basta con un solo paso si antes de la difusión se aplicase una pasta fosfórica sobre el patrón de los contactos, de modo que bajo acción térmica los átomos se mueven fuera de la pasta y penetran en la zona de conductividad. Existe otra variante más sofisticada, que consiste en usar en los contactos pasta de plata, que contiene fósforo y lo libera al silicio durante el curado de contactos. No obstante, el problema de emplear pastas de fósforo es que la concentración de los átomos de fósforo en el silicio varía fuertemente tras la aplicación.

Dr. Jorge Luis Mírez Tarrillo
Group of Mathematical Modeling and Numerical Simulation (GMMNS).
Universidad Nacional de Ingeniería. Lima, Perú.
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